CMP研磨墊
CMP 研磨墊,拋光墊, CMP PAD, 氨基甲酸乙酯研磨墊(日本產(chǎn))
本產(chǎn)品是由日本東麗(TORAY)公司開(kāi)發(fā)生產(chǎn)的聚氨酯材料加工而成,材料本身具有獨(dú)立氣泡特性,精度高,構(gòu)造單一的特點(diǎn)。 適合于電腦硬盤(pán)的玻璃磁碟基材,液晶面板材料,半導(dǎo)體曝光罩(MASK),半導(dǎo)體CMP,各種玻璃類(lèi)的研磨。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1,樹(shù)脂的硬度,氧化鈰含量,發(fā)泡比率,厚度等可以根據(jù)用戶的研磨條件進(jìn)行調(diào)整。
2,含氧化鈰與不含的型號(hào)均可以提供。
3, 硬度,密度范圍大。 硬度75~95(TYPE-A),密度0.4~0.85g/cm 3
含有氧化鈰研磨料的拋光墊的擴(kuò)大照片 | 含有氧化鈰研磨料的拋光墊的擴(kuò)大照片 |
KEYWORDS:半導(dǎo)體行業(yè)CMP研磨消耗材,CMP 研磨墊,拋光墊, CMP PAD, 氨基甲酸乙酯研磨墊, TORAY,CIEGAL ,阻尼布,鹿皮研磨墊, 千代田株式會(huì)社, 1900W, 7355-000FE,玻璃拋光, 陶瓷拋光,
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